制造商:日本
主要功能: 半自動(dòng)晶圓電鍍">

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IC激光修調(diào)工藝設(shè)備

激光封焊設(shè)備

晶圓激光退火設(shè)備

晶圓激光劃片剝離設(shè)備

金屬電鍍工藝設(shè)備

PARYLENE鍍膜設(shè)備

高精度貼片機(jī)

旋涂機(jī)

平行縫焊機(jī)

離子污染測(cè)試儀

噴涂點(diǎn)膠機(jī)

固化設(shè)備

金屬剝離濕法工藝設(shè)備

開(kāi)帽機(jī)

半自動(dòng)機(jī)型

半自動(dòng)晶圓電鍍系統(tǒng)
制造商:日本
主要功能: 半自動(dòng)晶圓電鍍

  •        電鍍過(guò)程是金屬化的過(guò)程,通過(guò)全密閉單片式電鍍腔體,將電鍍液中的金屬離子電鍍到晶圓表面,以形成金屬互聯(lián)。導(dǎo)電電極會(huì)連接至晶圓,采用電鍍工藝沉積金屬至晶圓上圖案化的溝槽內(nèi)而形成金屬層(又稱為金屬薄膜)中的金屬線,例如形成銅線,或者金線。
           此電鍍?cè)O(shè)備可運(yùn)用于多種晶圓材料如Si、InP、GaAs、GaN、LiNbO3、SiC等,也可做電鍍Au、Cu、Ni、Sn、Ag等多種金屬的單層或多層電鍍工藝。
           同樣適用于多種電鍍工藝,如凸塊、RDL、通孔、盲孔、深孔等工藝需求,擁有出色的均勻性。
           根據(jù)工藝需求,可提供配套的電鍍藥水。
     
           半自動(dòng)型采用機(jī)械手手動(dòng)上下料,并靈活選配單CUP、多CUP、Prewet、QRD、SRD等模塊功能,可兼容多種鍍液,操作方便快捷,適用于多品種快速切換量產(chǎn)型需求。

  • 1, 環(huán)狀電極和鍍液噴涌攪拌裝置,可以更好的保證電鍍均勻性,也可電鍍深孔深槽,Au、Cu、Ni、Sn、Ag等多種金屬。
    2, 多模塊組合方案,可配套Prewet、QRD、SRD等多種模塊功能。
    3, 可滿足不同尺寸晶圓的電鍍需求,可支持2~8英寸,更換夾具方便快捷。
    4, 可選配不同的鍍液,支持單層及多層電鍍金屬沉積工藝。
    5, 采用PLC控制,多項(xiàng)傳感器及互鎖的技術(shù)運(yùn)用確保機(jī)器穩(wěn)定運(yùn)行。
    6, 槽體及管路采用pump材質(zhì),可耐強(qiáng)酸堿。
    7, 采用手動(dòng)上下料,實(shí)現(xiàn)多品種晶圓間的快速切換,擁有PLC的自動(dòng)電腦記憶功能。

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